अल्ट्रासोनिक सफाई के प्रभाव को प्रभावित करने वाले दो मुख्य कारक

अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन का मुख्य तंत्र अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन द्वारा उत्पन्न अल्ट्रासोनिक तरंगों का cavitation है। अल्ट्रासोनिक पोकेशन की ताकत ध्वनिक और पर्यावरणीय परिस्थितियों की सफाई के भौतिक और रासायनिक गुणों ध्वनिक मानकों से संबंधित है। अच्छी सफाई प्रभाव प्राप्त करने के लिए, उपयुक्त ध्वनिकों का चयन किया जाना चाहिए। पैरामीटर्स और सफाई तरल पदार्थ।

1. अल्ट्रासोनिक ध्वनि तीव्रता या ध्वनि दबाव चयन

सफाई समाधान में, नकारात्मक दबाव तब होता है जब वैकल्पिक ध्वनि दबाव का आयाम तरल के स्थिर दबाव से अधिक होता है, और अल्ट्रासोनिक सफाई टैंक में ध्वनि तीव्रता अल्ट्रासोनिक पोकेशन उत्पन्न करने के लिए पोकेशन थ्रेसहोल्ड से अधिक है। एक ठेठ तरल के लिए, cavitation दहलीज लगभग 1/3 वाट प्रति वर्ग सेंटीमीटर (ध्वनि दबाव का वर्ग ध्वनि तीव्रता के आनुपातिक है)। जब ध्वनि तीव्रता बढ़ जाती है, प्रारंभिक त्रिज्या में पोकेशन बुलबुले के अधिकतम त्रिज्या का अनुपात बढ़ता है, और पोकेशन तीव्रता बढ़ जाती है, यानी ध्वनि तीव्रता जितनी अधिक होती है, उतनी ही मजबूत पोकेशन, जो सफाई प्रभाव के लिए फायदेमंद होती है। लेकिन ज़ोर से ज़ोर से ज़ोर से ज़ोर से आवाज नहीं। बेकार बुलबुले की बड़ी संख्या उत्पन्न होती है, जो बिखरने वाले क्षीणन को बढ़ाती है और ध्वनि बाधा उत्पन्न करती है। साथ ही, ध्वनि तीव्रता में वृद्धि nonlinear क्षीणन भी बढ़ जाती है, जो ध्वनि स्रोत से सफाई प्रभाव को कमजोर कर देगा। धातु की सतहों पर ऑक्साइड जैसी कुछ हार्ड-टू-क्लीन गंदगी के लिए, रासायनिक फाइबर स्पिनरेट्स के छिद्रों में गंदगी की सफाई के लिए उच्च ध्वनि तीव्रता की आवश्यकता होती है। इस समय, सतह को साफ करने के लिए ध्वनि स्रोत के करीब होना चाहिए, और अधिकांश समय, टैंक क्लीनर का उपयोग नहीं किया जाता है। रॉड के आकार वाले फोकस करने वाले ट्रांसड्यूसर को सफाई सदस्य की सतह के पास साफ करने के लिए सीधे सफाई तरल में डाला जाता है।

2. आवृत्ति चयन

अल्ट्रासोनिक cavitation दहलीज अल्ट्रासाउंड की आवृत्ति से बारीकी से संबंधित है। उच्च आवृत्ति, उच्च cavitation दहलीज। दूसरे शब्दों में, आवृत्ति जितनी अधिक होती है, तरल में पोकेशन उत्पन्न करने के लिए ध्वनि तीव्रता या ध्वनि शक्ति जितनी अधिक होती है; कम आवृत्ति, आसान पोकेशन, और कम आवृत्तियों पर तरल संपीड़न और लंबे समय के अंतराल के लिए स्पैस कार्रवाई के अधीन है। बुलबुले पतन से पहले बड़े आकार में बढ़ सकता है, और पोकेशन तीव्रता में वृद्धि हुई है, जो सफाई प्रभाव के लिए फायदेमंद है। वर्तमान में, अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन की ऑपरेटिंग आवृत्ति लगभग वस्तु आवृत्ति बैंड के अनुसार तीन आवृत्ति बैंड में विभाजित है; कम आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई (20-50 किलोहर्ट्ज), उच्च आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई (50-200 किलोहर्ट्ज़) और मेगाहर्ट्ज अल्ट्रासोनिक सफाई (700 किलोहर्ट्ज़ -1 मेगाहर्ट्ज या अधिक)। कम आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है जहां बड़े हिस्सों की सतह या गंदगी की सतह और सफाई भागों की सतह अधिक है। आवृत्ति का कम अंत, उच्च पोकेशन तीव्रता, सफाई भाग की सतह को खराब करने में आसान है, उच्च सतह खत्म होने वाले हिस्सों की सफाई के लिए उपयुक्त नहीं है, और पोकेशन शोर बड़ा है। लगभग 40 किलोहर्ट्ज की आवृत्ति पर, एक ही ध्वनि तीव्रता के तहत, उत्पन्न पोकेशन बुलबुले की संख्या 20 किलोहर्ट्ज की आवृत्ति से अधिक है, और घुमावदार शक्ति मजबूत है। जटिल सतह के आकार या अंधा छेद के साथ वर्कपीस को साफ करना बेहतर है, और पोकेशन शोर छोटा है। हालांकि, cavitation तीव्रता कम है, गंदगी की सफाई के लिए उपयुक्त है और सतह की सतह को साफ करने के लिए सतह कमजोर है, उच्च आवृत्ति अल्ट्रासोनिक सफाई कंप्यूटर और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक घटकों, जैसे चुंबकीय डिस्क, ड्राइव, सिर, तरल की ठीक सफाई के लिए उपयुक्त है क्रिस्टल ग्लास और फ्लैट डिस्प्ले, माइक्रो घटकों और पॉलिश धातु भागों की सफाई। सफाई प्रक्रिया के दौरान इन सफाई वस्तुओं को पोकेशन जंग से मुक्त होना आवश्यक है। माइक्रोन गंदगी को धोने में सक्षम होने के लिए। मेगाहर्ट्ज अल्ट्रासोनिक सफाई एकीकृत सर्किट चिप्स, सिलिकॉन वेफर्स और फिल्म की सफाई के लिए उपयुक्त है। यह सफाई भागों को किसी भी नुकसान के बिना माइक्रोन और उप-माइक्रोन गंदगी को हटा सकता है, क्योंकि इस समय कोई पोकेशन नहीं होता है। अल्ट्रासोनिक सफाई तंत्र मुख्य रूप से ध्वनि दबाव ढाल, कण वेग और ध्वनि प्रवाह की क्रिया है, जो मजबूत सफाई दिशा द्वारा विशेषता है। साफ करने के लिए ऑब्जेक्ट आम तौर पर ध्वनि बीम के समानांतर दिशा में रखा जाता है।